技术特点
在半导体造作中，光罩（Mask，也称Reticle）用于批量转移电路设计图形到芯片上，承载了图形设计和工艺技术等关键信息，光罩上的图形谬误、颗 ；鄣热钡愠鞘杏跋彀氲继逶熳鞯牧悸式档，进而影响到芯片的机能和靠得住性。维普STORM 3000系列光罩检测设备，合用于Mask shop、FAB工厂对光罩出厂检测及定期监控。对于图形缺点、软缺点、Haze、Glass面及Pellicle面进行正确检测。
STORM 5000
STORM 5000?是维普第4代掩模图形缺点检测设备，基于STORM 3000的技术堆集及成功经验，在光学成像、算法、算力等方面进一步提升，可满足更高造程的Mask造作 ；支持PSM、Binary 掩模检测，适配 ArF 与 KrF对应的技术节点。
利用场景
为Mask shop及晶圆造作提供高效的Reticle检测规划
关键个性
- 基于深紫表DUV激光的超高分辨率光学系统
- 支持反射光、透射光同时检测
- 支持DD、SL、DB检测模式
- 支持RSP 150/200片盒
- 支持GDS、OASIS、MEBES文件体式
- 支持OPC图形检测
- 支持GPU散布式推算
STORM 3000
STORM 3000?是维普第三代IC Mask缺点检测产品，经过数年不休测试与持续改进，STORM 3000已获得业界头部客户的评估认可。STORM 3000基于先进的激光成像技术与高活络度的软件算法，可具备DB、DD、SL等检测模式，合用于Mask Shop、FAB对光罩出产过程、出货及定期检测的需要，拥有高精度、高效能、易使用等沉大优势。
利用场景
为Mask shop及晶圆造作提供高效的Reticle检测规划。
关键个性
- 基于UV激光的超高分辨率光学系统
- 支持反射光、透射光同时检测
- 支持DD、SL、DB检测模式
- 支持SMIF Pod、Nikon CASE、Canon CASE及Shipping Box等片盒
- 支持GDS、OASIS、MEBES文件体式
- 支持OPC校对
- 支持GPU散布式推算
IRIS-530
IRIS-530是维普推出的针对IC Mask双表表颗粒检测设备，系统选取高低两组光学系统与明场、暗场照明模式？赏奔觳釶ellicle及Glass面的颗粒及脏污检测，合用于Mask shop出货检测、FAB厂日常监控。
利用场景
为Mask shop出货检测、FAB Reticle定期监控提供高效、低成本的检测规划。
关键个性
- 同时检测玻璃面、pellicle面颗粒
- 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的开盒与自动高低板
- 基于明场+暗场的检测方式
- pellicle面、glass面、膜框内表部检测区域可矫捷设置
- 缺点地位与图形地位关系可视化展示
- 配置气浴风刀，可对表表颗粒进行断根
STORM 3000U
STORM 3000U是维普新一代针对IC Mask基板缺点检测产品，基于已被认可的STORM 3000平台架构，在光学成像、传输及缓存进行相应的优化、以提升易用性及降低设备成本。合用于Mask Blank基板出产、出货及Mask shop来料检测需要，针对200nm检测精度，拥有高效能、易使用、低成本等沉大优势。
利用场景
为IC Mask基板造作、IC Mask shop来料检测提供高效、低成本的检测规划。
关键个性
- 基于激光的超高分辨率光学系统
- 支持SMIF Pod自动高低料
- 支持颗粒、划伤、针孔、脏污检测
- 支持自动Review及缺点分类
- 支持抛光板、铬板及匀胶后检测
- 支持基板自动分级及缓存
